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光学材料清洗用去离子水设备生产厂家
发布时间:2019-03-25 16:10

一、光学材料清洗用去离子水设备生产厂家简介:
光学镜片的清洗主要是指镜片抛光后残余抛光液、黏结剂、保护性材料的清洗;镜片磨边后磨边油、玻璃粉的清洗;光学镜片镀膜前手指印、口水圈以及各种附着物的清洗。光学镜片在制作过程中表面会粘付一些溶剂、药水等需要进行清洗,为了保证镜面的洁净度防止烘干后产生水痕,需要电导率0.1μs/cm2的超纯水进行漂洗。
 
光学镜片用超纯水设备系统的清洗工艺包括四个流程:洗涤、漂洗、脱水、干燥。
 
因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗,所以有不同的工艺:有先进行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有先进行溶剂清洗,再用乳化剂溶解溶剂,再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。
 
 
 
影响漂洗效果的因素有以下几个:
 
洗剂的漂清性能,漂洗水的纯度、温度以及流动性等。一般在常温下,电导率为0.1μs/cm2的超纯水可以保证漂洗的要求。
 
经过漂洗后的光学镜片表面的洁净度应和漂洗水洁净
 
光学镜片清洗用超纯水设备系统常用的处理工艺为反渗透+混合离子交换法,或更为先进的反渗透 EDI(电去离子法)使产品水水质能达到0.1μs/cm2,相比之下,后者成本相对高些。
 
反渗透 混床高纯水系统的产水电阻率达到1-15兆姆25℃,采用双极混床可达电阻率达到15-18兆欧姆25℃,应用领域十分广泛。
 
反渗透 混床高纯水系统是利用反渗透系统除去水中95-97%以上的离子杂质,再用后级混床精处理,除去水中剩余离子,产水水质电阻率一般达到1-15兆欧姆25℃反渗透与混床的完美结合,有着设备投资省,运行成本低,管理维护方便等特点.反渗透ROReverse Osmosis反渗透技术是利用压力差为动力的膜分离过滤技术,源于美国二十世纪六十年代宇航科技的研究,后逐渐转化为民用,目前已广泛运用于科研医药食品饮料海水淡化等领域。
 
(RO)反渗透膜孔径小至纳米级,在一定的压力下,H2O分子可以通过RO膜,而源水中的无机盐重金属离子有机物胶体细菌病毒等杂质无法通过RO膜,从而使可以透过的纯水和无法透过的浓缩水严格区分开来.
 
混床是混合离子交换柱的简称,是针对离子交换技术所设计的设备.所谓混床,就是把一定比例的阳阴离子交换树脂混合装填于同一交换装置中,对流体中的离子进行交换脱除.由于阳树脂的比重比阴树脂大,所以在混床内阴树脂在上阳树脂在下.一般阳阴树脂装填的比例为1:2,也有装填比例为1:1.5的,可按不同树脂酌情考虑选择.混床也分为体内同步再生式混床和体外再生式混床.同步再生式混床在运行及整个再生过程均在混床内进行,再生时树脂不移出设备以外,且阳阴树脂同时再生,因此所需附属设备少,操作简便,具有以下优点:
 
(1)出水水质优良,出水pH值接近中性.
 
(2)出水水质稳定,短时间运行条件变化如进水水质或组分、运行流速等对混床出水水质影响不大.
 
(3)间断运行对出水水质的影响小,恢复到停运前水质所需的时间比较短.
 
奥力原水处理研制的系列反渗透加混床超纯水设备(装置)充份考虑工作环境、使用等多方面因素采用专业反渗透设计软件进行设计制造,关键设备采用进口产品,工艺先进,质量可靠,可扩展性强,结构合理占地小,水利用率高,能耗低,操作维护简单。
 
二、光学材料清洗用去离子水设备,光学材料清洗用去离子水设备生产厂家工艺流程:
 
反渗透 EDI制取镜片清洗用超纯水
 
采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的的方式,这是一种制取高纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的高纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→软水器-精密过滤器→反渗透设备→纯水箱→电去离子(EDI)→纯水箱
 
这种方法用来制取超纯水的工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。

 

 



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